El recubrimiento PVD es un proceso de recubrimiento por plasma que implica el proceso fí-sico de depositar capas sólidas delgadas de otro material sobre una superficie o pieza para que ese objeto sea más duradero. El recubrimiento PVD es diferente al CVD, también conocido como deposición quí-mica de vapor, porque el recubrimiento PVD no requiere que ocurra ninguna reacción quí-mica en la superficie del objeto para que el recubrimiento funcione. El recubrimiento PVD se puede lograr utilizando varias técnicas diferentes. Una de las técnicas más comunes se llama deposición por pulverización catódica de plasma. Este proceso utiliza iones de plasma para bombardear el material, lo que hace que parte de él se vaporice y luego ese vapor se deposite sobre la superficie deseada.
El recubrimiento PVD es solo uno de los métodos utilizados para recubrir superficies. Otros requieren productos quí-micos y estos procesos generalmente requieren limpiezas extensas y no son amigables con el medio ambiente. El recubrimiento PVD es más seguro que esos métodos. Además, el recubrimiento PVD se puede utilizar en casi cualquier tipo de material inorgánico. Una desventaja del recubrimiento PVD son los costos más altos. El proceso requiere máquinas complejas que necesitan operadores calificados. Además, la velocidad a la que opera el recubrimiento PVD es relativamente lenta. Sin embargo, el recubrimiento PVD sigue siendo uno de los métodos más efectivos para mejorar la resistencia y durabilidad de una superficie.
Para obtener más información sobre el uso del plasma en la fabricación, lea nuestro libro electrónico titulado "Guí-a de activación de superficies del fabricante para una mejor adherencia".