El grabado es el proceso de eliminación de material de la superficie de un material. Los dos tipos principales de grabado son el grabado en húmedo y el grabado en seco (p. Ej., Grabado con plasma). El proceso de grabado que implica el uso de productos quí-micos lí-quidos o agentes de grabado para quitar el material del sustrato se llama grabado en húmedo. En el proceso de grabado con plasma, también conocido como grabado en seco, se utilizan plasmas o gases de grabado para eliminar el material del sustrato. El grabado en seco produce productos gaseosos, y estos productos deben difundirse en el gas a granel y ser expulsados través del sistema de vací-o. Hay tres tipos de grabado en seco (por ejemplo, grabado con plasma): reacciones quí-micas (mediante el uso de plasma o gases reactivos), eliminación fí-sica (generalmente por transferencia de impulso) y una combinación de reacciones quí-micas y eliminación fí-sica. Por otro lado, el grabado en húmedo es solo un proceso quí-mico.
Ventajas y Desventajas del Grabado en Seco (Grabado con Plasma) y del Grabado en Húmedo
Las ventajas de los procesos de grabado en húmedo son relativamente rápidas con altas tasas de grabado. Los baños de equipos simples o la pulverización de quí-mica húmeda pueden tener una alta selectividad. El agente de grabado tí-pico del proceso húmedo son solventes lí-quidos, sanguijuelas corrosivas y ácidos. El equipo de proceso suele ser un tanque de inmersión o un sistema de rociado de la quí-mica elegida. Sin embargo, existen muchas desventajas. El grabado en húmedo es generalmente isotrópico, lo que da como resultado que los productos quí-micos del grabador eliminen el material del sustrato debajo del material de enmascaramiento a la misma velocidad que el grabado a granel. El grabado en húmedo también requiere grandes cantidades de productos quí-micos de ataque porque el material del sustrato debe cubrirse con el quí-mico de ataque. Además, las sustancias quí-micas del grabador deben reemplazarse constantemente para mantener la misma velocidad de grabado inicial que las cargas quí-micas de grabado con subproducto grabado. Como resultado, los costos quí-micos y de eliminación asociados con el grabado en húmedo son relativamente altos.
Algunas de las ventajas del grabado en seco son su capacidad de automatización, consumo reducido de material, la capacidad de utilizar diferentes gases de grabado con configuraciones de proceso muy diferentes en la misma herramienta con poco o ningún cambio de hardware a lo largo del tiempo. Este proceso también se realiza lejos del operador en la cámara de vací-o produciendo una condición de buena higiene industrial. La eliminación de productos quí-micos de grabado en seco (por ejemplo, grabado con plasma) cuesta menos y es más fácil eliminar los subproductos en comparación con el grabado en húmedo. Algunas de las desventajas del grabado con plasma: por lo general, es un proceso por lotes y se realiza en una cámara de vací-o.
Thierry Germany