Grabado con óxido - Proceso químico con grabador húmedo • Utilizando ácido fluorhídrico
El grabado con óxido es un grabador húmedo, que utiliza un proceso quí-mico en lugar de un proceso de plasma seco para grabar. A menudo llamado grabado con óxido tamponado o grabado con HF, este proceso utiliza las propiedades corrosivas del ácido fluorhí-drico para grabar materiales hasta lograr la forma deseada y las propiedades superficiales. Este proceso se denomina grabado con óxido "amortiguado" porque el ácido fluorhí-drico concentrado reacciona demasiado rápido y produce un grabado incontrolado. Cuando se mezcla con un agente amortiguador, como el fluoruro de amonio, el grabado del óxido es más lento y más controlado.
La principal aplicación de un grabado con óxido tamponado es el grabado de obleas de silicio para la industria de la microfabricación. Si bien el grabado con óxido tamponado es una herramienta adecuada para grabar obleas, el grabado con plasma es un proceso muy superior. El grabado con plasma crea un grabado más preciso y es mucho más seguro. Los grabados con óxido requieren la manipulación de potentes soluciones de ácido fluorhí-drico que pueden provocar quemaduras graves si entran en contacto con la piel. También existe el problema de tratar con la eliminación adecuada de subproductos peligrosos, mientras que los tratamientos con plasma no dejan residuos nocivos.
Para obtener más información sobre el grabado, consulte nuestro libro electrónico titulado "Estrategia de limpieza y grabado con plasma para una mejor calidad del producto".
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