Aplicaciones Industriales de PECVD - Creación de capas finas uniformes • aplicaciones versátiles
La deposición quí-mica en fase de vapor mejorada con plasma (PECVD) permite la creación de capas delgadas altamente uniformes, promueve la pureza y la adhesión y varí-a las composiciones en sustratos de diferentes materiales y geometrí-as. Debido a su versatilidad y eficiencia, así- como a la posibilidad de procesos de fabricación empleados a gran escala, esta técnica de recubrimiento por plasma ha encontrado aplicaciones en muchas industrias diferentes. Por ejemplo, en la industria óptica se utiliza en la fabricación de filtros ópticos, pelí-culas antirreflectantes y dispositivos con un í-ndice de refracción no deseado. En ingenierí-a mecánica, se utiliza para aumentar la vida útil de la herramienta mediante la aplicación de revestimientos resistentes al desgaste (por ejemplo, carbono tipo diamante o cuasi-diamante) o previniendo la corrosión (por ejemplo, Cr2O3 o MgO). En electrónica y microelectrónica se utiliza para proporcionar un revestimiento aislante (por ejemplo, SiO2), semiconductor (por ejemplo, Si o GaAs) o conductor (por ejemplo, de Al o SiCr) para piezas o dispositivos, y en la producción de células solares para pasivación de superficies.
El depósito de una pelí-cula sobre un sustrato para obtener propiedades especiales se puede realizar mediante PECVD, en el que la mezcla de gases o las sustancias de recubrimiento deseadas se activan aplicando un voltaje que se convierte en una especie plasmática reactiva (iones, electrones, radicales, átomos y moléculas). Este procedimiento PECVD permite que la reacción tenga lugar a temperaturas más bajas (aproximadamente 100-400°C) que la CVD activada por calor, lo que lo hace particularmente útil cuando el sustrato no puede soportar altas temperaturas. Además, el aumento de la densidad del plasma también aumenta la concentración de especies reactivas y, en consecuencia, la velocidad de reacción. El aumento de la densidad del plasma también puede funcionar a presiones más bajas, lo que da como resultado un mayor control sobre la direccionalidad de los iones. Todo esto contribuye a que el recubrimiento de plasma PECVD sea flexible, eficiente y adecuado para innumerables aplicaciones.
Para obtener más información sobre el uso del plasma en la fabricación, lea nuestro libro electrónico titulado "Guí-a de activación de superficies del fabricante para una mejor adherencia".
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